PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長(cháng)法，表面鍍鈦加工公司，沉積過(guò)程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，鄭州市表面鍍鈦加工，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或濺射”后，表面鍍鈦加工怎么收費，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱(chēng)：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過(guò)程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN，加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍），以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來(lái)加熱蒸發(fā)源，使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄膜。特征：真空環(huán)境；蒸發(fā)源材料需加熱熔化；基底材料也在較高溫度中；用磁場(chǎng)控制蒸發(fā)的氣體，從而控制生成鍍膜的厚度。濺射沉積濺射是與氣體輝光放電相聯(lián)系的一種薄膜沉積技術(shù)。濺射的方法很多，有直流濺射、RF濺射和反應濺射等